Am Montag, dem 7.7. um 16.00 Uhr hielt Dr. Peter Ventzek von
Tokyo Electron (TEL) America einen Vortrag zum Thema „Plasma process
simulation: role in process and equipment development“. Dr. Ventzek ist im Austin Plasma Laboratory
Verantwortlicher für die Modellierung und Simulation von Plasmaprozessen und
–kammern (Etching, Deposition, Doping).
Der Wissenschaftler war an bereits an vielen Innovationen
beteiligt, so entwickelte er unter anderem als Postdoktorand von Prof. Mark J.
Kushner zwischen 1992 und 1994 eine multidimensionale Rechenplattform zur
Simulation von Plasmaquellen für die Materialverarbeitung an der University of
Illinois. Seine Forschung ist sowohl für die Wissenschaft als auch die Industrie von Belang.
Nicht zuletzt aufgrund der industriellen Relevanz des Unternehmens - TEL gehört zu den weltweit größten Ausrüstern für die Halbleiterindustrie - war Dr. Ventzeks Vortrag nicht nur für SFB-Mitglieder hörenswert.
